Europa na ratunek. Produkcja zwiększy się aż o 50%

Holenderski gigant z dużym przełomem. Zwiększenie mocy źródła światła w maszynach EUV znacząco podniesie wydajność produkcji. Branża półprzewodników wchodzi w kolejną fazę boomu, który tym razem napędzają nie producenci elektroniki użytkowej, ale przede wszystkim firmy projektujące układy dla centrów AI. W efekcie najwięksi gracze, tacy jak TSMC, od miesięcy mierzą się z brakami mocy produkcyjnych. Rozbudowa fabryk trwa, ale to proces kosztowny i czasochłonny. Na szczęście na horyzoncie jest inne, przełomowe rozwiązanie. Z narzędzi tej firmy korzysta również Samsung oraz Intel Holenderski ASML, kluczowy dostawca maszyn litograficznych EUV, pracuje nad zwiększeniem mocy źródła światła w swoich systemach. Jak wynika z doniesień agencji Reuters, firmie udało się podnieść moc z 600 W do nawet 1000 W. W praktyce ma to zwiększyć liczbę przetwarzanych wafli krzemowych z 220 do 330 na godzinę. Co najważniejsze, wzrost wydajności ma nastąpić bez proporcjonalnego zwiększenia kosztów produkcji. Jeśli te założenia się potwierdzą, mówimy o ponad 50% wzroście wydajności w perspektywie niespełna dekady, bez konieczności budowy nowych cleanroomów czy instalowania dodatkowych, kosztownych systemów. To scenariusz, który może znacząco złagodzić obecne wąskie gardła w łańcuchu dostaw i poprawić dostępność najbardziej zaawansowanych układów scalonych. Oczywiści ekluczowe będzie wdrożenie nowego rozwiązania w istniejących fabrykach. ASML oferuje swoim klientom pakiety modernizacyjne pozwalające zwiększyć wydajność bez wymiany całej maszyny. Starsze acz wciąż popularne modele, takie jak NXE:3400C czy NXE:3400D, napotykały bowiem ograniczenia termiczne przy wyższych mocach. Ruch ASML ma również wymiar strategiczny Holenderska firma od lat ma dominującą pozycję w tej branży, ale presja rośnie. Chiny inwestują ogromne środki w rozwój własnych technologii, a na rynku pojawiają się nowi gracze. Wśród nich wymienia się m.in. amerykański startup Substrate, który pracuje nad alternatywnym podejściem opartym na wykorzystaniu promieniowania rentgenowskiego o krótszej długości fali, generowanym przez akcelerator cząstek. Jeżeli jednak ASML faktycznie wdroży kilowatowe źródło światła EUV na szeroką skalę, może to jeszcze bardziej umocnić ich pozycję i jednocześnie odblokować moce produkcyjne w całym sektorze. W czasie, gdy popyt na układy AI bije kolejne rekordy, nawet kilkudziesięcioprocentowy wzrost wydajności może okazać się kluczowy dla dalszego rozwoju rynku.