Samsung przyśpiesza. Litografia 1 nm na horyzoncie
Rynek produkcji półprzewodników to zatrzęsienie klientów i miliardowe zyski. Samsung bierze się więc w garść i przechodzi do ofensywy.
Samsung nie odpuszcza wyścigu w świecie produkcji półprzewodników. Chociaż prace na litografią 2 nm GAA wciąż trwają, koreańska firma planuje skupić się również na procesie klasy 1 nm. Z najnowszego raportu wynika, że czebol powołał zespół badawczy, który ma przyspieszyć te starania. Harmonogram zakłada rozpoczęcie masowej produkcji w 2029 roku.
Przed Koreańczykami czeka zatrzęsienie wyzwań
Aktualny lider na rynku, TSMC, od niedawna przyjmuje już pierwsze zamówienia na wafle krzemowe wykonanie w litografii 2 nm. Jednocześnie rozwijany jest proces 1,4 nm. W przypadku Intela gotowe są już pierwsze partie klasy 1,8 nm, ale masowa produkcja przewidywana jest dopiero pod koniec tego roku - wraz z mobilnymi układami Intel Panther Lake.
Według koreańskiego Sedaily, litografia 1 nm Samsunga określana jest aktualnie mianem "procesu marzeń". Aby zrealizować tak zaawansowane założenia, niezbędne jest wykorzystanie jeszcze bardziej zaawansowanego sprzętu high-NA EUV, którego Samsung jak dotąd nie posiada. Łatwo się jednak domyślić, że z czasem zostanie on pozyskany od ASML.
Wcześniejsze doniesienia sugerowały, iż Samsung anulował prace nad 1,4 nm. Zakładało się wtedy, że uczyniono to by przekierować zasoby na litografię 2 nm, która u Koreańczyków ma uzysk na poziomie 30%. Teraz można gdybać, że były to przygotowania pod zespół odpowiedzialny za 1 nm. Jednak śmiały cel masowej produkcji w 2029 roku oznacza, iż firma będzie musiała zmierzyć się z licznymi wyzwaniami. Jest to jednak niezbędne, jeśli Koreańczycy chcą rzucić wyzwanie Tajwańczykom.
