Chociaż Intel kojarzony jest głównie ze swoich bardzo wydajnych procesorów do komputerów osobistych, stacji roboczych i serwerów, to Amerykanie działają również na wielu innych polach. Mowa między innymi o układach graficznych, akceleratorach AI czy przemyśle odlewniczym.
A tak się składa, że Intel Foundry poinformowało o osiągnięciu kamienia milowego w zaawansowanej produkcji półprzewodników, dzięki ukończeniu montażu pierwszego w branży komercyjnego skanera litograficznego High NA EUV od ASML, znajdującego się w ośrodku badawczo-rozwojowym firmy w Oregonie (USA).
Narzędzie przechodzi obecnie przez etapy kalibracji w ramach przygotowań do produkcji procesów Intela w przyszłości. Opisywana maszyna jest w stanie poprawić rozdzielczość i skalowanie funkcji dla procesorów nowej generacji poprzez zmianę projektu optyki służącej do rzutowania obrazów na waflu krzemowym.
Co to oznacza? Niebiescy nabierają rozpędu w produkcji półprzewodników, co pozwoli im nawiązać walkę z takimi gigantami jak Samsung czy TSMC. High NA EUV, zwane też 0,55NA EUV, zostanie wykorzystane do produkcji testowej litografii Intel 18A (1,8 nm) w 2025 roku, a później do Intel 14A (1,4 nm).
Amerykanie twierdzą, że widzą możliwość wykorzystania High NA EUV w co najmniej trzech swoich następnych litografiach, a być może i późniejszych procesach produkcji. Tym samym będzie to kluczowy element w ofercie Intel Foundry w najbliższych latach. Oczywiście z ostatecznymi ocenami warto wstrzymać się do zobaczenia pierwszych układów. Kluczowy będzie zarówno moment, w którym zostaną zaoferowane, jak i ich uzysk.
Zobacz: TeamGroup MP44Q, czyli połączenie wydajności i pojemności
Zobacz: Pekao da ci 200 zł i darmowe bankomaty. Wystarczy parę minut
Źródło zdjęć: Intel
Źródło tekstu: Intel, oprac. własne
